रिच विशेष सामग्री कं, लि।अर्धचालक, रासायनिक भाप निक्षेप (CVD) र भौतिक भाप निक्षेप (PVD) डिस्प्ले र अप्टिकल अनुप्रयोगहरूमा प्रयोगको लागि उच्चतम सम्भावित घनत्व र सबैभन्दा सानो सम्भावित औसत अन्न आकारको उच्च शुद्धता Zirconium Sputtering लक्ष्यहरू आपूर्ति गर्दछ।पातलो फिल्मका लागि हाम्रा मानक स्पटरिङ लक्ष्यहरू उपलब्ध छन् मोनोब्लक वा प्लानर लक्ष्य आयामहरू र प्वाल ड्रिल स्थानहरू र थ्रेडिङ, बेभलिङ, ग्रूभ्स र ब्याकिङ दुवै पुरानो स्पटरिङ उपकरणहरूका साथसाथै नवीनतम प्रक्रिया उपकरणहरूका साथ काम गर्न डिजाइन गरिएको कन्फिगरेसनहरू सहित। जस्तै सौर्य ऊर्जा वा इन्धन कक्षहरू र फ्लिप-चिप अनुप्रयोगहरूको लागि ठूलो क्षेत्र कोटिंग।अनुसन्धान आकारका लक्ष्यहरू साथै अनुकूलन आकार र मिश्रहरू पनि उत्पादन गरिन्छ।सबै लक्ष्यहरू एक्स-रे फ्लोरोसेन्स (XRF) सहित उत्कृष्ट प्रदर्शन गरिएका प्रविधिहरू प्रयोग गरेर विश्लेषण गरिन्छ।
पोस्ट समय: मे-०३-२०२३