मोलिब्डेनम लक्षित सामग्रीको उपयोग दर कसरी सुधार गर्ने

स्पटर्ड मोलिब्डेनम लक्ष्यहरू इलेक्ट्रोनिक्स उद्योग, सौर्य कक्षहरू, गिलास कोटिंग, र अन्य क्षेत्रहरूमा तिनीहरूको अन्तर्निहित फाइदाहरूको कारण व्यापक रूपमा प्रयोग गरिएको छ।लघुकरण, एकीकरण, डिजिटलाइजेशन, र बुद्धिमत्तामा आधुनिक प्रविधिको द्रुत विकासको साथ, मोलिब्डेनम लक्ष्यहरूको प्रयोग बढ्दै जानेछ, र तिनीहरूको लागि गुणस्तर आवश्यकताहरू पनि बढ्दो रूपमा उच्च हुनेछ।त्यसैले हामीले मोलिब्डेनम लक्ष्यहरूको उपयोग दर सुधार गर्ने तरिकाहरू खोज्न आवश्यक छ।अब, RSM को सम्पादकले सबैका लागि स्पटरिङ मोलिब्डेनम लक्ष्यहरूको उपयोग दर सुधार गर्न धेरै विधिहरू प्रस्तुत गर्नेछ।

1. उल्टो छेउमा विद्युत चुम्बकीय कुण्डल थप्नुहोस्

स्पटर गरिएको मोलिब्डेनम लक्ष्यको उपयोग दर सुधार गर्न, प्लानर म्याग्नेट्रोन स्पटरिंग मोलिब्डेनम लक्ष्यको उल्टो छेउमा एक विद्युत चुम्बकीय कुण्डल थप्न सकिन्छ, र मोलिब्डेनम लक्ष्यको सतहमा चुम्बकीय क्षेत्रको प्रवाह बढाएर बढाउन सकिन्छ। विद्युत चुम्बकीय कुण्डली, मोलिब्डेनम लक्ष्य को उपयोग दर सुधार गर्न को रूप मा।

2. ट्युबुलर घुमाउने लक्ष्य सामग्री चयन गर्नुहोस्

समतल लक्ष्यहरूको तुलनामा, ट्युबुलर घुमाउने लक्ष्य संरचना छनोटले यसको वास्तविक फाइदाहरू हाइलाइट गर्दछ।सामान्यतया, समतल लक्ष्यहरूको उपयोग दर 30% देखि 50% मात्र हुन्छ, जबकि ट्यूबलर घुमाउने लक्ष्यहरूको उपयोग दर 80% भन्दा बढी पुग्न सक्छ।यसबाहेक, घुमाउने खोक्रो ट्यूब म्याग्नेट्रोन स्पटरिङ लक्ष्य प्रयोग गर्दा, लक्ष्यले निश्चित बार चुम्बक असेंबलीको वरिपरि घुमाउन सक्छ, यसको सतहमा कुनै रिपोजिसन हुनेछैन, त्यसैले घुमाउने लक्ष्यको जीवन सामान्यतया 5 गुणा बढी हुन्छ। विमान लक्ष्य भन्दा।

3. नयाँ स्पटरिङ उपकरण संग बदल्नुहोस्

लक्षित सामग्रीको उपयोग दर सुधार गर्ने कुञ्जी भनेको स्पटरिङ उपकरणको प्रतिस्थापन पूरा गर्नु हो।मोलिब्डेनम स्पटरिङ लक्ष्य सामग्रीको स्पटरिङ प्रक्रियाको क्रममा, स्पटरिङ एटमहरूको लगभग छैटौं भाग भ्याकुम च्याम्बर पर्खाल वा कोष्ठकमा हाइड्रोजन आयनहरू मारिएपछि जम्मा हुनेछ, भ्याकुम उपकरण र डाउनटाइम सफा गर्ने लागत बढ्छ।त्यसैले नयाँ स्पटरिङ उपकरण प्रतिस्थापनले पनि स्पटरिङ मोलिब्डेनम लक्ष्यहरूको उपयोग दर सुधार गर्न मद्दत गर्न सक्छ।