आधुनिक भवनहरूले गिलास प्रकाशको ठूलो क्षेत्रहरू प्रयोग गर्न थाले।यो पक्षले हामीलाई उज्यालो कोठा र फराकिलो क्षितिज दिन्छ।अर्कोतर्फ, गिलास मार्फत प्रसारित गर्मी वरपरका पर्खालहरू भन्दा धेरै उच्च छ, र सम्पूर्ण भवनको ऊर्जा खपत उल्लेखनीय रूपमा बढ्छ।.
विकसित देशहरूमा कम विकिरण गिलासको 90% भन्दा बढीको उपयोग दरको तुलनामा, चीनमा कम-ई ग्लासको प्रवेश दर लगभग 12% मात्र छ, र चीनसँग अझै पनि विकासको लागि धेरै ठाउँ छ। साधारण गिलास र अनलाइन कम-ई गिलास, अफलाइन LowE गिलास को उत्पादन लागत उच्च छ, जो एक निश्चित डिग्री को आवेदन प्रतिबन्ध गर्दछ। घरेलु गिलास प्रशोधन उद्यमहरु कोटिंग उत्पादनहरु को उत्पादन लागत लगातार कम गर्न को लागी दायित्व छ, कार्यान्वयन को गति, ऊर्जा बचत, वातावरण सुधार, र सामाजिक दिगो विकास हासिल।
1,लक्ष्य आकार को प्रभाव
कोटिंगको ठूला क्षेत्रहरूले प्रायः आकार अनुसार लक्षित सामग्री प्रयोग गर्दछ, जसमा प्लानर अभिविन्यास र घुमाउने अभिविन्यास समावेश छ।सामान्य प्लानर लक्ष्यहरूमा तामा लक्ष्य, चाँदी लक्ष्य,Ni-Cr लक्ष्य र ग्रेफाइट लक्ष्य।सामान्य घुमाउने लक्ष्यमा जस्ता एल्युमिनियम लक्ष्य, जस्ता टिन लक्ष्य, सिलिकन एल्युमिनियम लक्ष्य, टिन लक्ष्य, टाइटेनियम अक्साइड लक्ष्य, जिंक अक्साइड एल्युमिनियम लक्ष्य र यस्तै अन्य छन्। लक्ष्य आकारले म्याग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंगको स्थिरता र फिल्म गुणहरू, र उपयोगलाई असर गर्नेछ। लक्ष्य दर धेरै उच्च छ।लक्ष्यको आकार योजना परिवर्तन गरेपछि, कोटिंगको गुणस्तर र उत्पादन शक्ति सुधार गर्न सकिन्छ र लागत बचत गर्न सकिन्छ.
2,सापेक्ष घनत्व र लक्ष्य को क्लियरेन्स को प्रभाव
लक्ष्यमा सापेक्षिक घनत्व लक्ष्यको सैद्धान्तिक घनत्वसँग व्यावहारिक घनत्वको अनुपात हो, एकल घटक लक्ष्यको सैद्धान्तिक घनत्व क्रिस्टल घनत्व हो, र मिश्र धातु वा मिश्रण लक्ष्यको सैद्धान्तिक घनत्व सैद्धान्तिक अनुसार गणना गरिन्छ। प्रत्येक तत्वको घनत्व र मिश्र धातु वा मिश्रणमा अनुपात.।थर्मल स्प्रेयरको लक्ष्य व्यवस्था छिद्रपूर्ण, अत्यधिक अक्सिजनयुक्त छ (भ्याकुम स्प्रेको साथ पनि, मिश्र धातु लक्ष्यमा अक्साइड र नाइट्रस यौगिकहरूको उत्पादन अपरिहार्य छ), र उपस्थिति खैरो छ र धातुको चमक छैन।अवशोषित अशुद्धता र आर्द्रता प्रदूषणको प्राथमिक स्रोत हो।
3,लक्ष्य कण आकार र क्रिस्टल दिशा को प्रभाव
लक्ष्यको समान वजनमा, सानो कण आकारको लक्ष्य ठूलो कण आकारको लक्ष्य भन्दा छिटो हुन्छ।यो मुख्य रूपमा किनभने छिड़काउने प्रक्रियामा कण सीमा आक्रमण गर्न सजिलो छ, अधिक कण सीमा, छिटो फिल्म गठन।कणको आकारले स्पटरिङ गतिलाई मात्र असर गर्दैन, तर फिल्म निर्माणको गुणस्तरलाई पनि असर गर्छ। उदाहरणका लागि, EowE उत्पादनहरूको उत्पादन प्रक्रियामा, NCr ले इन्फ्रारेड रिफ्लेक्टिभ लेयर Ag को मर्मत तहको रूपमा काम गर्छ, र यसको गुणस्तरमा ठूलो प्रभाव हुन्छ। कोटिंग उत्पादनहरू।NiCr फिल्म तहको ठूलो विलुप्त गुणांकका कारण, यो सामान्यतया पातलो हुन्छ (लगभग 3nm)। कणको आकार धेरै ठूलो छ भने, स्पटरिङ समय छोटो हुन्छ, फिल्म तहको घनत्व खराब हुन्छ, Ag तहको मर्मत प्रभाव। घट्छ, र कोटिंग उत्पादनहरूको अक्सीकरण डेकोटिंग ल्याइएको छ।
निष्कर्ष
लक्षित सामग्रीको आकार योजनाले मुख्य रूपमा लक्षित सामग्रीको उपयोग दरलाई असर गर्छ।उचित आकार योजनाले लक्ष्य सामग्रीको उपयोग दरमा सुधार गर्न सक्छ र लागत बचत गर्न सक्छ। कण आकार जति सानो हुन्छ, कोटिंग गति जति छिटो हुन्छ, उति राम्रो एकरूपता हुन्छ।शुद्धता र घनत्व जति उच्च हुन्छ, पोरोसिटी कम हुन्छ, फिल्मको गुणस्तर राम्रो हुन्छ, र डिस्चार्ज स्ल्याग घट्ने सम्भावना त्यति नै कम हुन्छ।
पोस्ट समय: अप्रिल-27-2022