कुन क्षेत्रहरू स्पटरिङ लक्ष्यहरूमा प्रयोग गरिन्छ

हामी सबैलाई थाहा छ कि स्पटरिङ लक्ष्यका धेरै विशिष्टताहरू छन्,जसमा aw छआवेदन को ide दायरा.Tउनले लक्ष्यअनुसार विभिन्न उद्योगमा प्रयोग हुने विभिन्न जात पनि फरक–फरक हुन्छन्, आज आउनुहोस् संग बेइजिङRichmat सँगै स्पटरिङ लक्षित उद्योग वर्गीकरण बारे जान्न. 

一,स्पटरिङ लक्ष्य सामग्री को परिभाषा

　स्पटरिङ पातलो फिल्म सामग्रीहरू तयार गर्नको लागि मुख्य प्रविधिहरू मध्ये एक हो।यसले आयन स्रोतबाट उत्पन्न आयनहरूलाई भ्याकुममा द्रुत एकत्रीकरणको माध्यमबाट उच्च गतिको ऊर्जाको साथ आयन किरण बनाउन प्रयोग गर्दछ। बमबार गरिएको ठोस सतह, आयनहरू र ठोस सतह परमाणुहरूमा गतिज ऊर्जा आदानप्रदान हुन्छ, जसले गर्दा ठोस सतहमा रहेका परमाणुहरूले ठोसलाई छोड्छन् र जम्मा हुन्छन्। सब्सट्रेट सतह, बमबारेड ठोस स्पटरिङ डिपोजिटेड फिल्म तयार गर्नका लागि कच्चा माल हो, जसलाई स्पटरिङ लक्ष्य भनिन्छ।

二,स्पटरिङ लक्ष्य सामग्री को आवेदन क्षेत्र वर्गीकरण

　　1,अर्धचालक लक्ष्य

(१)सामान्यतया प्रयोग हुने सामग्री:यस क्षेत्रमा साझा लक्ष्यहरूमा ट्यान्टालम, तामा, टाइटेनियम, एल्युमिनियम, सुन, निकल र अन्य उच्च पग्लने बिन्दु धातुहरू समावेश छन्।

　　(२)प्रयोग:मूलतया एकीकृत सर्किट को महत्वपूर्ण मूल डाटा मा प्रयोग गर्नुहोस्

　　(३)कार्यात्मक आवश्यकताहरू:शुद्धता, आकार, एकीकरणमा प्राविधिक आवश्यकताहरू उच्च छन्।

　　२,प्लानर प्रदर्शनको लागि लक्षित सामग्री

　　(१)सामान्यतया प्रयोग हुने सामग्री:यस क्षेत्रमा सामान्यतया प्रयोग हुने लक्ष्यहरूमा एल्युमिनियम/कपर/मोलिब्डेनम/निकेल/नियोबियम/सिलिकन/क्रोमियम, आदि समावेश छन्।

　　(२)प्रयोग:यस प्रकारको लक्षित सामग्री मुख्यतया टिभी र नोटबुकको विभिन्न प्रकारका ठूला एरिया फिल्महरूमा प्रयोग गरिन्छ।

　　(३)कार्यात्मक आवश्यकताहरू:शुद्धता, ठूलो क्षेत्र, एकरूपता र यति मा उच्च आवश्यकताहरू।

　　3,सौर्य कक्षहरूको लागि लक्ष्य

(१)सामान्यतया प्रयोग हुने सामग्री:एल्युमिनियम/तामा/मोलिब्डेनम/क्रोमियम/ITO/Ta लक्ष्यहरू सामान्यतया सौर्य कक्षहरूमा प्रयोग गरिन्छ।

　　(२)प्रयोग:मुख्य रूपमा "विन्डो तह", बाधा तह, इलेक्ट्रोड र प्रवाहकीय फिल्म र अन्य अवसरहरूमा प्रयोग गरिन्छ।

　　(३)कार्यात्मक आवश्यकताहरू:उच्च कौशल आवश्यकता, प्रयोगको विस्तृत दायरा।

　　4,सूचना भण्डारणको लागि लक्षित सामग्री

　　(१)सामान्यतया प्रयोग हुने सामग्री:सूचना भण्डारण सामान्यतया प्रयोग गरिन्छ कोबाल्ट/निकेल/फेरोअलोय/क्रोमियम/टेलुरियम/सेलेनियम लक्ष्य सामग्री।

　　(२)प्रयोग:यहाँ लक्षित सामग्री मुख्यतया सीडी-रोम र सीडीको टाउको, मध्य तह र तल्लो तहको लागि प्रयोग गरिन्छ.

　 (3) कार्यात्मक आवश्यकताहरू:उच्च भण्डारण घनत्व र उच्च प्रसारण गति आवश्यक छ.

　　5,उपकरण परिमार्जनका लागि लक्षित सामग्री

(१)सामान्यतया प्रयोग हुने सामग्री:टाइटेनियम/जिरकोनियम/जाली/क्रोम-एल्युमिनियम मिश्र धातु र अन्य लक्ष्यहरूको उपकरण परिमार्जन.

　　(२)प्रयोग:यो सामान्यतया उपस्थिति वृद्धि को लागी प्रयोग गरिन्छ.

　　(३)कार्यात्मक आवश्यकताहरू:उच्च कार्यात्मक आवश्यकताहरू, लामो सेवा जीवन.

　　6,इलेक्ट्रोनिक उपकरणहरूको लागि लक्षित सामग्री

　 (१)सामान्यतया प्रयोग हुने सामग्री:एल्युमिनियम मिश्र धातु/सिलिसाइड लक्ष्यहरू सामान्यतया इलेक्ट्रोनिक उपकरणहरूमा प्रयोग गरिन्छ

　　(२)प्रयोग:सामान्यतया फिल्म प्रतिरोधक र capacitors लागि प्रयोग गरिन्छ.

　　(३)कार्यात्मक आवश्यकताहरू:सानो आकार, स्थिरता, कम प्रतिरोध तापमान गुणांक