भ्याकुम कोटिंग सामग्री CoFeTaZr लक्ष्य कोबाल्ट-आयरन-ट्यान्टालम-जिरकोनियम मिश्र धातु लक्ष्य म्याग्नेट्रोन स्पटरिंग लक्ष्य
क्रोमियम कोबाल्ट
भ्याकुम कोटिंग सामाग्रीCoFeTaZr लक्ष्यकोबाल्ट-फलाम-ट्यान्टलम-जिरकोनियम मिश्र धातु लक्ष्य म्याग्नेट्रोन स्पटरिंग लक्ष्य,
CoFeTaZr लक्ष्य,
क्रोमियम कोबाल्ट स्पटरिङ लक्ष्यरिच स्पेशल मटेरियल्सबाट सिल्भरी मिश्र धातु स्पटरिङ सामग्री हो जसमा Cr र Co।
क्रोमियम एक रासायनिक तत्व हो जुन ग्रीक 'क्रोमा' बाट उत्पन्न भएको हो, जसको अर्थ रंग हो।यो प्रारम्भिक 1 ईस्वी भन्दा पहिले प्रयोग गरिएको थियो र टेराकोटा सेना द्वारा पत्ता लगाइएको थियो।"Cr" क्रोमियमको क्यानोनिकल रासायनिक प्रतीक हो।तत्वहरूको आवधिक तालिकामा यसको आणविक संख्या 24 हो जसको स्थान अवधि 4 र समूह 6 हो, जुन d-ब्लकसँग सम्बन्धित छ।क्रोमियमको सापेक्ष आणविक द्रव्यमान 51.9961(6) डाल्टन हो, कोष्ठकमा रहेको संख्याले अनिश्चिततालाई जनाउँछ।
कोबाल्ट एक रासायनिक तत्व हो जुन जर्मन शब्द 'कोबाल्ड' बाट उत्पन्न भएको हो, जसको अर्थ गोब्लिन हो।यो पहिलो पटक 1732 मा उल्लेख गरिएको थियो र जी ब्रान्ड द्वारा अवलोकन गरिएको थियो।"Co" कोबाल्टको क्यानोनिकल रासायनिक प्रतीक हो।तत्वहरूको आवधिक तालिकामा यसको आणविक संख्या 27 हो जसको स्थान अवधि 4 र समूह 9 हो, जुन d-ब्लकसँग सम्बन्धित छ।कोबाल्टको सापेक्ष परमाणु द्रव्यमान 58.933195(5) डाल्टन हो, कोष्ठकमा रहेको संख्याले अनिश्चिततालाई जनाउँछ।
क्रोनियम कोबाल्ट स्पटरिङ लक्ष्यहरू भ्याकुम पिघलने र PM को माध्यमबाट निर्मित छन्।CrCo को उच्च विशिष्ट शक्ति छ र एयरोस्पेस उद्योग, कटलरी, बियरिङ, ब्लेड, आदि सहित उच्च पहिरन-प्रतिरोध आवश्यक पर्ने विभिन्न क्षेत्रहरूमा प्रयोग गरिएको छ।
रिच स्पेशल मटेरियल्सले स्पटरिङ टार्गेटको निर्माणमा माहिर छ र ग्राहकको विशिष्टता अनुसार क्रोनियम कोबाल्ट स्पटरिङ सामग्री उत्पादन गर्न सक्छ।थप जानकारीको लागि, कृपया हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्। Zirconium फलाम कोबाल्ट ट्यान्टलम लक्ष्य सामग्री उच्च शुद्धता कोबाल्ट, फलाम, ट्यान्टलम, zirconium लक्ष्य सामग्री को उच्च भ्याकुम पिघलने द्वारा बनेको छ, प्रविधिले प्रभावकारी रूपमा लक्षित उत्पादनको अक्सिजन सामग्री नियन्त्रण गर्न सक्छ र यसको प्रयोग। मोल्डको विशेष कूलिंग, मिश्र धातु तरल द्रुत शीतलन हो, मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री समान संरचना, समान संरचना वितरण, सानो, उच्च तापक्रम र उच्च दबाव घनत्व प्रशोधन मार्फत, सामग्री धेरै घना बनाउनुहोस्, यसले उच्चको स्पटरिंगको लागि ग्यारेन्टी प्रदान गर्दछ। गुणस्तरीय चलचित्रहरू।तातो उपचार पछि, लक्ष्यको चुम्बकीय टाउको अनुपात (PTF) उल्लेखनीय रूपमा बढेको छ, र कोबाल्ट-फलाम-ट्यान्टालम-जिरकोनियम लक्ष्य द्वारा जम्मा गरिएका पातलो फिल्महरू ठाडो चुम्बकीय रेकर्डिङ फिल्ममा महत्त्वपूर्ण नरम चुम्बकीय तहहरू हुन्।
